이재용 부회장이 지난해 8월 6일 삼성전자 천안 사업장에서 반도체 패키징 생산 라인을 둘러보며 관련 설명을 듣고 있다. 제공|삼성전자

[스포츠서울 이선율기자]이재용 삼성전자 부회장이 2일 새해 첫 경영 행보로 경기도 화성사업장 반도체연구소를 찾았다. 이곳에서 이 부회장은 3나노 공정기술과 관련해 보고 받고 DS(디바이스솔루션) 부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의한 것으로 알려졌다.

2일 삼성전자에 따르면 이 부회장은 이날 경기도 화성사업장 내 반도체 연구소를 찾아 3나노미터 공정 기술 관련 보고를 전달받고 반도체 부문의 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의했다. 이날 회의에는 삼성전자 김기남 부회장, 정은승 사장, 진교영 사장, 강인엽 사장, 강호규 반도체 연구소장 부사장 등이 참석했다.

이 부회장은 이날 현장에서 “과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다”며 “역사는 기다리는 것이 아니라 만들어 가는 것”이라고 강조한 것으로 알려졌다. 이어 그는 “우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자”고 말했다.

이 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한 번 임직원과 공유하며 목표달성 의지를 다진 것이다.

삼성전자가 개발한 3나노 반도체는 반도체 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술인 ‘GAA(Gate-All-Around)’를 적용했다. 3나노 반도체는 지난해 공정 개발을 완료한 5나노 제품에 비해 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있으며, 소비전력을 50% 감소시키면서 성능(처리속도)은 약 30% 향상시킬 수 있다고 회사 측은 설명했다.

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